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技術(shù)文章

1200℃高校實(shí)驗(yàn)坩堝爐訂做

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1200℃高校實(shí)驗(yàn)坩堝爐訂做主要用途:

AFD-1200-LG坩堝爐各項指標(biāo)均達(dá)到了水平,主要用于煅燒真空或惰性氣體保護(hù)下的高純度化合物或擴(kuò)散半導(dǎo)體晶片,也可用于烘燒或燒結(jié)陶瓷材料。

1200℃高校實(shí)驗(yàn)坩堝爐訂做技術(shù)參數(shù):

產(chǎn)品名稱

1200℃高校實(shí)驗(yàn)室坩鍋爐

產(chǎn)品型號

AFD-1200-LG

爐膛有效尺寸

200x200mm(更多尺寸可供選擇

正常工作溫度

1100℃

溫度

1200℃

溫控系統(tǒng)

30段PID微電腦可編程自動控制 (溫度控制系統(tǒng)采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù),具有PID調(diào)節(jié)、自整定功能,并可編制30段升降溫程序)(用戶可選配液晶觸摸屏顯示)

控溫度

±1℃

溫控保護(hù)

具有超溫和斷偶保護(hù)功能

加熱速率

0~20℃/分

加熱元件

合金電阻絲

工作電壓

AC 220V 單相 50HZ (電路電壓用戶可選擇定制)

大功率

3KW

溫度測試元件

K型熱電偶測溫,正后方測溫

爐殼溫度

≤45℃

凈重

80KG

提供相關(guān)配件

坩堝鉗、高溫手套、熱電偶、門堵

電氣認(rèn)證

CE認(rèn)證

聯(lián)


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